高純濺射靶材

發布于2023-09-25 11:59:13 點擊：0

利用離子源產生的離子轟擊固體表面，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體稱為濺射靶材, 是集成電路制造過程中的關鍵材料

根據應用領域，分為半導體靶材、面板靶材、光伏靶材等。高純濺射靶材制造環節技術門檻高、設備投資大，在濺射靶材產業鏈各環節的企業數量呈現金字塔型分布

半導體濺射靶材行業集中度很高，前五大廠商占比超過80%。具有規模化生產能力的企業數量相對較少，主要分布在美國、日本等國家和地區。
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